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Micro LED突破关键瓶颈 上下游产业链齐发力

来源:投影时代 更新日期:2022-10-03 作者:飘雪

    Micro LED正在进入全方面发展,如技术突破、芯片缩小、产业链丰富、良品率的提升、成本下降等等,都在呈现出Micro LED正一步步突破关键瓶颈。

    目前推估Micro LED芯片的成本有机会以每年以30%-40%的速度下降,有利于加快导入商品化进程。
另外,从机台设备和制程改良,到后段打线与系统整合等等各方面也都有可以促进Micro LED效率提升、并使成本下降的空间。

    今年下半年以来,上下游产业链都在发力,Mircro LED进入加速车道,笔者梳理了近期企业对MLED的发展进度,特别是巨量转移技术的突破、新产品的落地、产能扩产等。

    洲明推出P0.4间距Micro LED直显产品

    洲明UMicro 0.4产品向全球发布。洲明UMicro LED运用COB全倒装技术,采用EBL+(Enhance Black Level+)多层光学处理技术,可防触痕、防眩光、防低摩尔纹,柔和度、对比度大幅提高,画质提升,视觉体验全面升级,实现纯粹的哑光黑,让屏体无论是在录制环境、半户外环境、展览展示的环境都能实现优秀显示效果。

Micro LED突破关键瓶颈 上下游产业链齐发力:涉及国星光电、聚灿光电、康佳、利亚德、洲明、德龙、海目星、兆驰

    Micro P0.4的实用化,不仅是突破了巨量转移制程的难度、不仅是在分辨率集成度上的极大提升,同时也是在LED显示的固有优势上的再次飞跃。

    康佳Micro LED迈入量产期

    深康佳表示,公司在自主开发的“混合式巨量转移技术”上有所突破,转移良率达到99.9%,试产阶段效果较好。“在半导体业务方面,本公司正在积极推进产业化工作,已建成Micro LED全制程批量生产线,Mini LED芯片已具备量产能力,Micro LED芯片开始进入量产阶段”。

Micro LED突破关键瓶颈 上下游产业链齐发力:涉及国星光电、聚灿光电、康佳、利亚德、洲明、德龙、海目星、兆驰

    利亚德迈向99.999%

    海通证券指出,随着利亚德Micro LED芯片应用技术进一步成熟,利亚德的巨量转移良率大幅提升,PCB基巨量良率已提升至99.995%,半导体级转移良率迈向99.999%。随着利亚德在COG、量子点等技术上的投入,未来Micro LED产品成本有望大幅降低。

    德龙突破巨量转移

    德龙激光透露,上半年度公司Micro LED激光巨量转移技术取得突破,已经通过客户测试验证,有望在下半年取得订单。激光器方面,公司研发的30W飞秒紫外激光器已经完成研发,实现工业化量产,有很好的国产替代前景。公司新开发的光纤超快激光器也在做进一步可靠性验证,有望在公司半导体领域部分设备上批量导入。

    海目星首批出货

    海目星首批Micro LED巨量转移设备顺利出货,交予客户,这意味着海目星已成功掌握Micro LED巨量转移技术,在新型显示领域取得重要突破。

    海目星逐一突破高速定位、精准对位、激光工艺等技术瓶颈后,已完成首批巨量转移设备的搭设,设备不仅能达到≤ 50μm Micro LED应用要求。

    兆驰股份扩建

    兆驰股份已完成“上游芯片、中游封装、下游应用”的 LED 全产业链深度布局,在LED通用照明、传统LED背光、显示领域已占据主要市场份额,并持续提升高端照明、Mini LED背光、Mini LED显示等高端产品的占比。

    在LED 显示领域,兆驰股份积极布局Mini /Micro LED新型显示。兆驰股份陆续推出 100μm以下的Mini RGB显示产品、Mini倒装系列单灯产品,并将Mini LED与IMD封装技术相结合,实现P0.6~P0.9微间距显示器件的研制与量产。

    目前,兆驰股份共拥有 100 条COB显示模组生产线,2022 年于南昌显示工厂新增 300-500 条线,并实现对国内知名显示品牌厂商的批量供货。

    聚灿光电总投资15.5亿

    聚灿光电于发布公告称,计划建设年产720万片Mini/Micro LED芯片研发及制造扩建项目。项目总投资15.5亿元,其中拟投入募集资金12亿元。

    项目位于江苏省宿迁经济技术开发区聚灿光电科技(宿迁)有限公司现有厂区内,主要生产Mini/Micro LED芯片,项目主要建设内容包括:厂房建设、购置生产Mini/Micro LED芯片所需设备等,项目建成后形成年产720万片Mini/Micro LED芯片产能,建设期24个月。

    研发投入上,聚灿光电在2022年上半年投入0.61亿元,同比增加35.59%。截至目前共拥有授权专利113项,其中36项发明专利;拥有授权注册商标14项。

    国星光电良率99.99%

    国星光电推出第二代Micro LED新品——nStar Ⅱ。nStar Ⅱ为一款3.5英寸玻璃基Micro LED全彩显示屏,像素间距300微米(P0.3),采用TFT驱动实现了8bit(256灰阶)色深的显示效果;基于自主搭建的Micro LED 技术创新研发平台,同时突破了巨量转移及巨量键合双重技术难题,其综合良率提升至99.99%,相关技术成果未来有望在大尺寸拼接智慧屏等高清显示产品中获得广泛应用。

Micro LED突破关键瓶颈 上下游产业链齐发力:涉及国星光电、聚灿光电、康佳、利亚德、洲明、德龙、海目星、兆驰

    华灿光电Micro LED主要集中在小尺寸

    华灿光电在投资者互动披露了Mini/Micro LED产能、产品供应与合作方面的信息。据华灿光电介绍,其Micro LED产能目前主要集中在4英寸及6英寸产品,目前已有实际订单。

    专家观点:

    未来如何面对Micro LED的机遇与挑战?中国科学院院士、南京大学电子科学与工程学院教授郑有炓先生表示,应把握时机推进Micro LED显示产业发展,他指出Mini/Micro LED的技术优势带动其三大应用市场,包含超大尺寸、超高清商用工程显示领域,消费级电子显示主流产业领域和穿戴式IT终端微显示领域,其中AR、VR近眼显示助力推进社会数字化转型发展,也是元宇宙交互的关键入口,发展Micro LED显示技术意义重大。郑有炓院士为产业发展提出五点思考建议建议,建设高水平自立自强的Micro LED芯片产业;加强投资、持续发展Micro LED显示装备产业;创新开拓显屏背板、驱动及微电子系统技术;与5G时代新一代信息技术融合,创造发展Micro LED显示屏新功能;发展新技术开拓新应用,如透明显示。

    中国科学院院士、理论物理研究所战略发展委员会主任欧阳钟灿先生发表,“中国显示产业新趋势与MLED机遇”,他表示:在市场需求和技术创新双驱动下,中国新型显示产业核心竞争力不断增强,MLED(Mini/Micro LED)是下一代信息技术的主流技术,在亮度,对比度、响应速度、功耗、寿命和柔性等方面表现优异,是我国液晶面板产业升级的重要方向。其中COG MLED背光技术具有恒流驱动、亮度高、对比度高,不闪烁和平整度高的优点,有望成为未来的主流方向。欧阳钟灿院士同时表示需要从产业顶层设计,规范布局,优化结构,加强对MLED显示产业的引导和推动。

    后记:行业正在完善MLED产业链、工艺、设计、技术,加之政策支持,中国有望率先实现MLED产业化。Micro LED领域,2026年全球Micro LED出货量将达1550万台,年均复合增长率达99.00%。

    MLED显示将迎来重大的发展窗口期,包括超高清、AI、AR/VR都将是其重要的应用方向,在巨大的市场潜力驱动下,企业如何快马加鞭加速推进MLED商业化落地将是一大看点。

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