龙图光罩2025年营收稳中有进 聚焦高端制程推进国产替代

    近日，深圳市龙图光罩股份有限公司（股票简称：龙图光罩，股票代码：688721）发布 2025 年年度报告。报告显示，公司全年实现营业收入 2.47 亿元，同比增长 0.06%；归属于上市公司股东的净利润 5608.85 万元，同比下降 38.92%；归属于上市公司股东的扣除非经常性损益的净利润 5429.59 万元，同比下降 39.91%；基本每股收益 0.42 元。尽管净利润有所下滑，公司在高端制程突破、产能布局优化及国产替代推进等方面仍取得显著进展。

    核心业务稳扎稳打 产品结构持续优化

    龙图光罩作为国内稀缺的独立第三方半导体掩模版厂商，主营业务聚焦半导体掩模版的研发、生产和销售，产品广泛应用于信号链及电源管理 IC 等成熟制程，以及功率器件、MEMS 传感器、先进封装等特色工艺制程。2025 年，公司量产产品对应下游晶圆制造的工艺节点已提升至 90nm，更高节点产品已进入送样验证和规划建设阶段。

    从产品结构来看，石英掩模版作为公司重点发展方向，全年实现营业收入 2.05 亿元，同比增长 2.38%；苏打掩模版实现营业收入 4100.79 万元，同比下降 11.00%。分地区销售方面，境内市场实现营收 2.44 亿元，基本与上年持平；境外市场营收 231.89 万元，同比下降 16.77%。销售模式上，直销仍是主流，全年实现营收 2.42 亿元，非直销模式营收 392.43 万元，同比增长 27.70%。

    产销量数据显示，2025 年公司石英掩模版产量 4.68 万片，同比增长 14.34%，销量 4.68 万片，同比增长 14.02%；苏打掩模版产量 3.21 万片，同比下降 15.97%，销量 3.20 万片，同比下降 16.45%，反映出公司资源向高附加值的石英掩模版产品倾斜的战略导向。

    多因素致利润下滑 珠海工厂进入产能爬坡期

    报告期内公司净利润下滑，主要受四方面因素影响：一是半导体掩模版行业竞争加剧，130nm 及以上制程产品市场竞争显现，公司为巩固市场份额对部分客户实施策略性降价，导致深圳工厂相关产品收入及毛利率下降；二是珠海工厂于 2025 年二季度正式投产，处于产能爬坡关键期，固定资产折旧成本较高，规模效应尚未完全释放，产品毛利率为负；三是公司重点布局高端制程及关键客户开发，研发投入、销售费用等同比显著增加；四是珠海工厂部分存货可变现净值低于成本，公司基于审慎性原则计提了相应的资产减值损失。

    作为公司未来增长的核心支点，珠海工厂 2025 年实现营业收入 2728.80 万元，目前已进入稳定运营状态。工厂聚焦 130~65nm 节点半导体掩模版产品，以电子束、PSM 为核心技术支撑，正快速推进客户送样验证，为后续高端订单承接和收入增长奠定基础。

    研发投入持续加码 技术创新筑牢核心壁垒

    公司始终坚持自主研发和技术创新，2025 年研发投入达 2737.52 万元，同比增长 18.76%，研发投入占营业收入的比例提升至 11.10%，较上年增加 1.75 个百分点。报告期内，公司在核心技术领域持续突破，获得发明专利 4 件、实用新型专利 4 件、软件著作权 5 件，截至 2025 年末累计拥有 29 项发明专利和 41 项软件著作权。

    技术制程方面，深圳工厂持续巩固 130nm 及以上制程技术优势，通过全流程工艺优化降低制程报废率，提升零缺陷产品比率；珠海工厂加速高端制程攻坚，90nm 节点产品实现量产，65nm 掩模版产品开始送样验证，40~28nm 产品已启动项目规划和建设工作。此外，公司自主研发的 AMSD 掩模数据处理平台和 AMSC 自动化检查平台形成 "设计 - 检查" 协同闭环，有效提升了掩模数据处理效率与可靠性。

    客户资源优质稳定 国产替代优势凸显

    经过多年深耕，公司已与华虹宏力、士兰微、立昂微、英诺赛科等国内主要晶圆厂建立长期稳定合作关系，在功率半导体、MEMS、第三代半导体等特色工艺光罩领域形成较强客户黏性，成为下游客户国产化采购的重要选择。2025 年，珠海工厂顺利通过华虹宏力、燕东微、润西微、三安集成、意法半导体等多家客户的审核认证，部分客户已实现小批量合作，客户群体向高端化持续拓展。

    在行业地位方面，公司在 BIM 产品市场占据重要地位，在 65nm 以上 PSM 产品市场具备综合服务能力。在国产替代深化的行业背景下，公司在 130nm 及以上制程节点的技术水平已达到国际一线竞争对手同等水平，产品关键参数无明显差异，成为国内半导体掩模版领域的核心参与者。

    2026 年聚焦四大方向 蓄力高质量发展

    对于 2026 年发展，公司明确四大核心经营计划：一是加速珠海基地产能释放，提升 90nm 掩模版供货量，实现 65nm 掩模版验证通过及小批量供货，拓展更多应用领域；二是持续加大研发投入，围绕高精度图形补偿、缺陷检测与控制等关键技术攻关，向更高精度、先进节点迭代；三是深化精益运营，推进深圳、珠海两厂协同运营，通过工艺优化、良率提升等举措降低综合成本；四是深耕客户服务，强化与头部晶圆厂、芯片设计公司的技术协同，同时加大境外优质客户开拓力度。

    报告同时披露，公司 2025 年度拟不派发现金红利、不送红股、不以公积金转增股本，未分配利润将用于加大研发投入、日常运营发展及项目投资等，为公司长远可持续发展奠定基础。

    未来，龙图光罩将持续聚焦高端半导体掩模版领域，以技术突破、产能释放、市场深耕、供应链自主为核心，不断巩固核心竞争力，助力国内半导体产业国产替代进程向纵深推进。