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JDI公布基于光刻技术的OLED生产工艺

来源:投影时代 更新日期:2022-05-16 作者:佚名

    日本显示(Japan Display,简称JDI)宣布开发出一种新型OLED沉积技术,并将其命名为eLEAP,该技术具有成本效益,可用于制造比使用掩模蒸镀(FMM)生产的更亮、更高效、更持久的OLED。eLEAP 还支持OLED自由形式沉积。JDI将此项新技术视为“显示技术的历史性突破”。

JDI公布基于光刻技术的OLED生产工艺

    eLEAP基于光刻方式,不需要任何掩模。主要优势是eLEAP技术生产的OLED显示器的开口率可以达到60%,而FMM OLED的开口率约为28%。这意味着可以在较低电流下驱动OLED显示器,从而延长其使用寿命、提高效率并在需要时实现更高的峰值亮度。

    JDI声称,eLEAP显示器的发射效率和峰值亮度提高了2倍,而使用寿命延长了3倍(这也减少了老化问题)。这些数字是JDI使用300PPI显示器得出的计算结果。

    eLEAP代表环境积极、无掩模沉积的光刻、极长的寿命、低功耗和高亮度,以及任何形状的图案化。JDI表示,eLEAP可以与公司的HMO(高迁移率氧化物)背板技术相结合,显著提高OLED显示性能。eLEAP生产技术可以扩展到8代(2200×2500 mm)基板,甚至更大,适用于从可穿戴尺寸显示器到电视尺寸的OLED显示器生产。

    最后,JDI表示,eLEAP降低了运营成本,减少了材料浪费,并且不需要用于面罩的清洁液——这意味着eLEAP显著减少了材料使用、浪费和二氧化碳排放。

    JDI表示,客户对此表示出了极大的兴趣,目前公司已经在与客户进行谈判,目标是在2022年底之前开始生产eLEAP样品。JDI还希望能向其他显示器制造商提供eLEAP技术。

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