中微公司 2025 年营收增 36.62% 至 123.85 亿元 高端半导体设备业务成果显著

    2 月 28 日，中微半导体设备 (上海) 股份有限公司（证券代码：688012，证券简称：中微公司）发布 2025 年度业绩快报，公司全年经营业绩实现稳步增长，高端半导体设备研发与产业化取得多项突破，各核心业务板块展现出强劲发展势头。公告显示，本次披露的财务数据为初步核算结果，未经会计师事务所审计，具体数据以公司后续发布的 2025 年年度报告为准。

    财务数据方面，中微公司 2025 年经营指标实现全面增长。全年营业总收入达 123.85 亿元，较 2024 年的 90.65 亿元增加 33.19 亿元，同比增长 36.62%；实现营业利润 21.91 亿元，同比增长 28.59%；利润总额 21.90 亿元，同比增长 28.14%。归属于母公司所有者的净利润 21.11 亿元，较上年同期的 16.16 亿元增加 4.95 亿元，同比增长 30.69%；归属于母公司所有者的扣除非经常性损益的净利润 15.50 亿元，同比增长 11.64%。

    盈利指标上，公司基本每股收益为 3.40 元，较 2024 年的 2.61 元同比增长 30.19%；加权平均净资产收益率为 9.98%，较上年提升 1.37 个百分点。截至 2025 年末，公司总资产达 297.72 亿元，较期初增长 13.56%；归属于母公司的所有者权益 226.95 亿元，较期初增长 14.99%；股本为 6.26 亿元，较期初微增 0.61%；归属于母公司所有者的每股净资产 36.24 元，同比增长 14.29%。

    营收结构中，核心业务刻蚀设备表现亮眼，2025 年销售金额达 98.32 亿元，同比增长 35.12%；新产品板块增长迅猛，LPCVD 和 ALD 设备销售 5.06 亿元，同比大幅增长 224.23%，成为公司业绩增长的重要新引擎。

    净利润增长背后，多重因素共同驱动。一方面，公司营业收入大幅增长带动毛利增加约 11.28 亿元，成为利润增长的核心基础；另一方面，非经常性损益贡献显著，2025 年公司计入非经常性损益的股权投资收益 6.07 亿元，较上年的 1.98 亿元增加 4.09 亿元，主要系二级市场股价波动及出售部分上市公司股票所致。而扣非后净利润的增长，主要源于营收增长带来的毛利提升，同时叠加研发费用大幅增长的影响，2025 年公司研发费用 24.75 亿元，较上年增加 10.58 亿元，同比增长 74.61%。

    研发投入方面，中微公司持续加码核心技术攻关，2025 年全年研发投入达 37.44 亿元，较 2024 年增加 12.91 亿元，同比增长 52.65%，研发投入占营业收入比例达 30.23%，远高于科创板均值。高研发投入下，公司新产品数量快速增加，各核心设备领域技术突破与产业化进展显著。

    在刻蚀设备领域，公司针对先进逻辑和存储器件制造的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺、先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现稳定可靠的大规模量产。其中，CCP 介质刻蚀产品保持高速增长，可全面覆盖存储器刻蚀超高深宽比需求；ICP 刻蚀设备及化学气相刻蚀设备开发进展良好，加工精度和重复性达单原子水平。截至 2025 年底，公司累计超 7800 个反应台在国内外 170 余条客户芯片及 LED 生产线量产，其中刻蚀设备反应台全球累计出货超 6800 台。

    薄膜设备领域，公司 CDP 产品部门开发的十多款 LPCVD、ALD 等导体和介质薄膜设备顺利入市，性能达国际领先水平，覆盖率持续提升，其中 LPCVD 设备累计出货量突破 300 个反应台，多款产品已获重复性订单。

    外延设备领域，EPI 设备研发取得自主知识产权突破，减压 EPI 设备已付运成熟制程及先进制程客户进行量产验证，部分先进工艺进入量产验证阶段；新一代高选择比预清洁腔体、常压外延设备也分别进入客户端量产验证和工艺验证阶段，化合物半导体外延设备亦陆续付运客户端验证。

    泛半导体设备领域，公司持续保持国际氮化镓基 MOCVD 设备市场领先地位，在碳化硅、氮化镓基功率器件及 Micro-LED 等显示领域布局成效显著，多款 MOCVD 新产品进入客户端验证阶段，新型八寸碳化硅外延设备、红黄光 LED 应用设备已付运国内领先客户开展验证，进展顺利。

    此外，公司产能与供应链保障能力持续提升，南昌约 14 万平方米、上海临港约 18 万平方米的生产和研发基地均已投入使用，为销售增长提供坚实产能支撑；同时公司持续开发关键零部件供应商，推动供应链稳定安全，设备交付率保持高位，运营管理水平不断提升，成本与费用控制能力有效增强，为经营业绩增长奠定了坚实基础。