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国星光电:获得一项LED相关发明专利

来源:投影时代 更新日期:2015-07-24 作者:佚名

    7月21日,国星光电对外发布关于取得发明专利证书的公告,公告称,公司于近日取得一项发明专利,并获得了由国家知识产权局颁发的专利证书。

    据悉,该项专利的名称为用于在晶圆级封装中暴露电极的方法及掩膜版,专利是申请日为2012 年 06 月 13 日,授权日为2015 年 6 月 17 日,有效期为20年。

    国星光电表示,该专利的专利权人为公司。此项专利的取得不会对公司生产经营产生重大影响,但有利于保护和发挥公司自主知识产权优势,形成持续创新机制,保持技术领先地位,提升公司的核心竞争力。

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