拓荆科技 "一日双响"：25 亿元并购补齐 PVD 版图，董事长同步提议 2 亿至 3 亿元回购

    10 月 15 日晚间，半导体设备龙头拓荆科技（688072）连发两项重磅动作：拟以 25 亿元收购无锡尚积等三家公司股权，补齐 PVD 设备品类、完善薄膜沉积平台；同日，公司董事长吕光泉提议以自有资金回购 2 亿元至 3 亿元股份。并购扩版图、回购表信心 —— 两项动作叠加，将这家上半年净利暴增逾 13 倍的设备龙头的扩张姿态一次性完整呈现。

    一、25 亿元并购：补齐 PVD 品类，薄膜沉积平台成型

    根据拓荆科技披露的发行股份及支付现金购买资产并募集配套资金报告书（草案），公司拟向王世宽、夏小军、无锡芯聚等 34 名交易对方，购买其合计持有的无锡尚积 82.97% 股份、上海泰纳微 100% 股权和无锡宽行 100% 股权，标的资产合计交易价格为 25 亿元；同时拟向不超过 35 名特定对象发行股票募集配套资金 18.2 亿元。

    这笔交易的产品逻辑十分清晰：拓荆科技深耕薄膜沉积设备，已形成 PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、FlowableCVD 等核心品类并规模量产，但此前主营不涉及 PVD（物理气相沉积）品类；标的公司无锡尚积聚焦 PVD 设备研发与产业化，产品已实现规模量产。通过收购，拓荆科技可在现有品类基础上快速补齐 PVD，完善产品矩阵，并向三维集成等方向延伸布局。从 "薄膜沉积" 到 "全品类沉积" 的平台化扩张路径，也随之浮出水面。

    二、董事长提议回购 2 亿至 3 亿元：真金白银表信心

    同一晚，拓荆科技公告称，董事会于 10 月 15 日收到董事长吕光泉《关于提议回购公司股份的函》。根据提议，公司拟以自有资金、通过上交所集中竞价交易方式回购部分 A 股，回购资金总额不低于 2 亿元（含）、不超过 3 亿元（含）；回购股份拟用于员工股权激励 / 员工持股计划或减少注册资本；回购期限为董事会审议通过回购方案之日起 12 个月内；回购价格不高于董事会审议通过回购方案决议前 30 个交易日股票交易均价的 150%。吕光泉同时承诺，将积极推动回购事项，并在董事会上对回购议案投赞成票。

    在并购扩张落地的同一时点启动回购，信号含义明确：既有对 "并购 + 整合" 后公司长期价值的认可，也为核心团队激励预留了股份来源 —— 若最终用于股权激励 / 员工持股，将与并购整合形成配套。

    三、底气何来：上半年净利 13.43 亿元，同比暴增 1324.10%

    回购与并购的底气，来自公司 2026 年上半年的业绩爆发。据 8 月 20 日披露的半年报，拓荆科技上半年实现营业收入 29.13 亿元，同比增长 49.06%；实现归母净利润 13.43 亿元，同比增长 1324.10%；基本每股收益 4.77 元，并拟每 10 股派发现金红利 3.50 元。

    业绩高增背后是产品结构升级：PECVD 系列在先进存储、先进逻辑领域放量，应用于先进存储、先进逻辑的 PECVD Stack（ONO 叠层）、ACHM 系列工艺等产品已进入规模化量产并批量通过客户验证；ALD 系列在先进存储领域量产规模快速攀升，多台工艺设备在客户端完成重复订单验证并实现收入转化。公司在半年报中表示，在手订单饱满，可为全年交付与业绩增长提供坚实支撑。产能端，公司已在沈阳、上海布局产业化基地，年产能可达 700 台以上，沈阳高端半导体设备产业化基地建成后，最大年产能将超过 1000 台。

    四、行业视角：设备国产化进入 "增量 + 替代" 共振期

    拓荆科技的双重动作，正处于本土半导体设备产业的扩张窗口。随着 "存储 + 逻辑" 晶圆厂扩产推进，前道设备迎来验证与市场进入的难得机遇，高深宽比刻蚀、薄膜沉积等关键设备已实现国产突破，设备行业呈现 "增量 + 替代" 双重逻辑。近期，微导纳米拟定增募资不超 49.44 亿元扩产、中微公司公布 35 亿元投资计划，国产设备厂商的产能与平台化军备竞赛同步提速。拓荆科技此番 "并购补品类 + 回购表信心"，正是这一产业趋势的缩影。

    后续需关注：本次回购尚需董事会 / 股东大会审议通过后方可实施；重大资产重组尚需履行董事会、股东大会审议及监管审核程序，均存在不确定性。公司同步披露，提议人吕光泉在提议前 6 个月内除作为股权激励对象归属 12,500 股限制性股票外，无其他买卖公司股份情况，且本次回购期间暂无增减持计划。