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Micro LED领域又一重大突破：芯元基成功开发出晶圆级印章巨量转移工艺

来源：投影时代　更新日期：2023-12-11 作者：佚名
Infocomm China 深入报道 LED及大屏商显年终总结 年度评选盛典获奖揭晓

    上海芯元基在其独有的化学剥离Micro LED的技术基础上，成功开发出了晶圆级印章巨量转移工艺，达到了转移芯片位置零偏差。

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　标签：LED上游 行业新闻
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