理光超短焦投影机亮相谭平个展 完美呈现新艺术

    2012年12月7日-13日，中国最重要的国家美术馆——中国美术馆迎来了一场重量级的展览——《谭平个展：｜划》。这是首个进入中国美术馆主展厅的抽象艺术家展览，通过对中央美术学院副院长谭平在油画、版画领域的作品梳理，展现这位中国最著名的抽象艺术家的创作脉络。同时，此次展览也独创性地运用了互动影像等新媒体形式，来自全球领先的数字办公解决方案和文档管理服务提供商――理光的超短焦投影机以卓越科技完美诠释了当代新兴艺术的魅力。

    本次个展上，谭平以艺术的全球观念，运用抽象艺术语言的链接，创造了东方、西方不同文化在同一时空中的精彩聚汇。展览中最重要的作品《+40m》，正是运用了理光超短焦投影机PJ WX4130/WX4130N投射展示，艺术的诗意与科技的光芒交相辉映，勾起无限回响。新媒介的使用将抽象艺术创作带入了当代艺术的前端，也将改变传统的观看方式与展览形态。

    作为影像信息科技的领先企业，理光始终关注科技产品在艺术界的应用，旨在带领艺术爱好者、设计者、会展人领略数码投影科技的新境界。参加此次个展的理光PJ WX4130/WX4130N投影机，是目前世界上最小、最轻及投射距离最短的超短焦投影机。该机型每台仅重3公斤，采用了自由曲面镜及曲折光学系统，可以收集更多的光线并减少反射次数，投射80英寸屏幕画面只需要不到25cm的距离，实现更精准高效的投影。行业内首创的垂直摆放设计，利于节省有限空间，可以在一般投影机无法使用的小型空间中使用。凭借优秀内涵和杰出外形，该机型日前还获选了2012年度IDEA国际杰出设计大奖。在优雅和谐的展厅内，这款产品也不显突兀，成为艺术品的延伸。

    当代艺术家谭平表示：“在此前举办的个展上就曾与理光有过合作，感谢理光投影机对我作品展的大力支持。在当代艺术中，作品的呈现除去作品本身之外，展示设计成为一个越来越重要的组成部分。而随着图像时代的来临，观众对视觉需求逐渐增强，传统的展示方式——纸媒展示已经不能满足展览的多元化需求，影像成为一个运用更加广泛以及有更多可能性的艺术媒介，参与到展示设计、乃至于艺术创作中来。在展示作品创作过程的同时，也成为展览视觉空间中不可替代的一部分。”

    随着新媒体艺术近年来的蓬勃发展，投影机已不仅仅是投影工具，还将成为作品自身的一部分。如何将影像科技与艺术进行完美融合，创造出更丰富的视觉感官体验，不仅是艺术家们的目标，也是理光的追求。正如“imagine. change”（想象 改变）的品牌精髓所倡导的，理光坚信其未来在影像科技和信息沟通领域将有更加深远的拓展，为新媒体艺术开辟一个全新“视”界。